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　　Qpol 300M2 是一款手動雙盤磨拋機，工作盤尺寸 250/300 mm. 在綜合了人體工程學的觸屏上，所有的過程參數(shù)以及便于手動操作的功能都清晰地顯示出來并可以隨時進行方便的更改。所有的過程參數(shù)都可以保存為制備方法?？烧{節(jié)的定時器和用于可視化當前磨拋壓力的扭矩顯示使得手動制備步驟也為舒適和具有重現(xiàn)性。當制備開始或結束時，水閥自動打開/關閉。 甩干功能（加速清潔) 在制樣過程結束時以750rpm的轉速旋轉3 秒鐘，有助于磨拋盤脫水，之后自動關閉設備。為強勁的、速度可控的驅動使得該型號適用于所有的制備步

　　Qpol 300 M1是一款手動單盤磨拋機，工作盤尺寸 250/300 mm. 在綜合了人體工程學的觸屏上，所有的過程參數(shù)以及便于手動操作的功能都清晰地顯示出來并可以隨時進行方便的更改。所有的過程參數(shù)都可以保存為制備

　　QATM雙盤手動研磨拋光機QPOL 250 M2工作盤: 200/250 mm轉速: 30-600轉/分，連續(xù)可調雙盤裝置研磨拋光機QPOL 250 M2Qpol 250 M2是一款手動，雙盤磨拋機，工作盤直徑 200/250 mm。 帶有亮起狀態(tài)指示的開始/停止開關及帶刻度和集成加速按鈕的轉向開關可以直觀地操作手動設備。甩干功能（加速清潔) 在制樣過程結束時以750rpm的轉速旋轉3秒鐘后關閉設備，有助于磨拋盤脫水。 尤其強大的速度控制驅動器使得該型號對所有工作步驟皆可實施應用。此外，工作盤可順時針/

　　QATM單盤手動研磨拋光機QPOL 250 M1工作盤: 200/250 mm轉速: 30-600轉/分，連續(xù)可調單盤裝置QATM研磨拋光機QPOL 250 M1Qpol 250 M1是一款手動，單盤磨拋機，工作盤直徑 200/250 mm。 帶有亮起狀態(tài)指示的開始/停止開關及帶刻度和集成加速按鈕的轉向開關可以直觀地操作手動設備。甩干功能（加速清潔) 在制樣過程結束時以750rpm的轉速旋轉3秒鐘后關閉設備，有助于磨拋盤脫水。 尤其強大的速度控制驅動器使得該型號對所有工作步驟皆可實施應用。此外，工作盤可

　　QATM手動研磨拋光機QPOL 200 M工作盤: 200 mm轉速: 20 - 600 rpm, 連續(xù)可調Qpol 200 M是一款用于金相制備的手動單盤磨拋機,工作盤直徑為200 mm。耐沖擊塑料內槽，采用粉末涂層的鋁制外殼及設備內部的高標準技術，賦予了其安靜、平穩(wěn)運行的特點及佳的制備結果。QATM磨拋機Qpol 200 M特點：單盤研磨/拋光機速度可調磨盤脫水旋轉功能（清潔加速）快速，便捷且無需工具的磨盤更換通過抬起工作盤，可輕松清潔/沖洗底槽鋁制外殼，粉末涂層抗撞擊塑料內槽手動水電磁閥內槽沖洗軟

　　QATM預磨機QGRIND 100/XL1、砂帶預磨機QGRIND 100初的研磨步驟，是為了去除樣品表面的變形層，并得到一個平面。砂帶機Qgrind 100非常適合用于去除樣品表面的毛刺和磨平樣品。砂帶預磨機QGRIND 100干式/濕式砂帶預磨機兩個研磨帶用于不同顆粒的砂紙砂帶尺寸: 100 x 920 mm研磨帶更換容易Qgrind100是一款穩(wěn)定的濕式雙砂帶預磨機，主要用于打磨毛刺或預磨樣品或其他材料?？赏瑫r使用兩種不同粒度的砂帶。產生的廢屑由供水系統(tǒng)排出。特點：雙砂帶預磨機水冷手動調整砂帶中心砂

　　1.中心加載力方式，一次性固定六個樣品，完成全部研磨拋光過程，磨拋出各個樣品的完整平面2.獨立控制磨拋盤和樣品盤：轉速、磨拋時間、轉動方向、水閥關閉等全部磨拋參數(shù)；3.觸摸屏界面：磨拋參數(shù)設定方便，狀態(tài)顯示直觀，操作簡單；4.加載力可以在運行中調整，靈活方便。5.通過用電磁閥來控制水的通斷。6.輕松更換磁性防粘盤，就能完成各種試樣的粗、精磨及粗、精拋光等所有工序, 一盤等效于N個盤。7.精度高，運行平穩(wěn)，噪音低。8.樣品磨去層厚度控制：精準控制樣品的磨去量，磨到指定位置 (選配);9.外部滴液器控制：外部

　　1.6個樣品，獨立加壓。2.PLC獨立控制磨拋盤和樣品盤：轉速、磨拋時間、轉動方向、水閥關閉等全部磨拋參數(shù)，并自動保存、方便調用；3.觸摸屏界面：磨拋參數(shù)設定方便，狀態(tài)顯示直觀，操作簡單；4.磨拋盤和樣品盤轉動均無級變速，旋轉方向可切換,PLC控制水和磨料滴入器的通斷。5.3種工作模式：1)全自動模式：根據(jù)樣品材料或使用者的習慣，可設置和調用：99套工藝（流程），每套工藝可含10步工序參數(shù)（每個工序對于某一步磨或拋工序工序參數(shù)：磨盤和磨頭轉動速度、磨拋時間……）2)單工序模式：根據(jù)每一步磨拋工序，可設置和

　　1.兩個磨盤，獨立電機，獨立控制2.八檔常用速度，每檔速度可由用戶自行設定,實現(xiàn)無級調速；3.逆時針/順時針，一鍵切換，遵從操作人員習慣4.回轉水管冷卻可以旋轉方向，調節(jié)水流量大小5.設備運行平穩(wěn)、噪音低雙盤雙控金相磨拋機LAP-2MV參數(shù)：工作盤直徑 ：標配φ230mm （選配φ203mm） 磨盤轉速（r/min）：左盤： V1=150、V2=300、V3=600、V4=800（可自設定100-1000r/min）右盤：V1=300、V2=500、V3=800、V4=1000（可自設定100-1000r

　　1.一機多用，完成金相試樣研磨和拋光等過程。2.雙盤，每個盤分低速、高速，易于切換3.回轉水管冷卻可以旋轉方向，水流量大小可調。4.設備運行噪音低、磨盤平整。雙盤四速金相磨拋機LAP-2E參數(shù)：工作盤直徑：標配φ230mm （選配φ203mm） 轉速： 低速V1=300r/min、V2=500r/min 高速 V1=600r/min、V2=1000r/min 電機功率：0.37kw 電源電壓：AC380V（AC220可以定制） 外形尺寸：700x710x340mm 重量：46kg

　　一機多用完成金相試樣研磨和拋光等過程。-兩檔定速切換，操作簡單方便-回轉水管冷卻可以旋轉方向，調節(jié)水流量大小。-設備運行噪音低、磨盤平整。單盤雙速金相磨拋機LAP-1E參數(shù)：工作盤直徑：標配φ230mm （選配φ203mm） 轉速：V1=500r/min、V2=1000r/min(可定制) 電機功率：0.37KW 電源電壓：AC380V 頻率：50HZ（AC220可以定制） 外形尺寸：680x360x340mm 重量：37kg

　　(多點加壓&中心加壓) 全自動金相磨拋機LAP-1000S/LAP-2000S產品特點：1.LAP-1000S/LAP-2000S 全自動單、雙盤金相磨拋機, 同時支持：→多個樣品獨立加載→樣品盤中心加載，一次性固定六（可定制8個樣品）個樣品，完成全部研磨拋光過程，磨拋出各個樣品的完整平面2.磨拋盤和樣品盤：設置和運行轉速、磨拋時間、轉動方向、水閥關閉等全部磨拋參數(shù)，并自動保存、方便調用；3.采用PLC + 1KW高功率電機4.采用兩個（LAP-1000S為單電機）獨立的1KW高功率電機扭矩大，無