金相磨拋機LAP-2SE/LAP-2S產(chǎn)品特點:1.采用PLC+高功率電機,雙磨拋盤;2.采用兩個(LAP-2SE為單電機)獨立的1KW高功率電機扭矩大,無論轉(zhuǎn)速快慢,扭矩大且恒定;3.速度范圍廣,從5轉(zhuǎn)/分鐘到1000轉(zhuǎn)/分鐘(最大1500轉(zhuǎn)/分鐘);4.轉(zhuǎn)盤快速啟停,轉(zhuǎn)盤2秒即可停止轉(zhuǎn)動;5.轉(zhuǎn)速、磨拋時間、轉(zhuǎn)動方向、水閥關(guān)閉等全部磨拋參數(shù),并自動保存、方便調(diào)用;6.手動模式,四擋;7.64種自動工序;8.12種常用材料磨拋工藝;9.進口PLC品牌,質(zhì)量可靠;10.觸摸屏界面,磨拋參數(shù)設定方便;1
自動金相磨拋機LAP-1S產(chǎn)品介紹:1.采用PLC+高功率電機;2.采用1KW高功率電機,扭矩大,無論轉(zhuǎn)速快慢,扭矩大且恒定;3.速度范圍廣,從5轉(zhuǎn)/分鐘到1000轉(zhuǎn)/分鐘(最大1500轉(zhuǎn)/分鐘);4.轉(zhuǎn)盤快速啟停,轉(zhuǎn)盤2秒即可停止轉(zhuǎn)動;5.轉(zhuǎn)速、磨拋時間、轉(zhuǎn)動方向、水閥關(guān)閉等全部磨拋參數(shù),并自動保存、方便調(diào)用;6.四擋手動工作模式;7.64種自動工序;8.12種常用材料磨拋工藝;9.進口PLC品牌,質(zhì)量可靠;10.觸摸屏界面,磨拋參數(shù)設定方便;11.連接并控制拋光液滴液器(選件)。自動金相磨拋機LAP-
半自動金相磨拋機LAP-100X產(chǎn)品介紹:1.同時放置三個樣品,樣品左右擺動,實現(xiàn)半自動磨拋;2.單個樣品下壓壓力,可定制調(diào)整;3.采用獨立的1KW高功率電機扭矩大,無論轉(zhuǎn)速快慢,扭矩大且恒定;4.觸摸屏界面,磨拋參數(shù)設定方便;5.速度范圍廣,從5轉(zhuǎn)/分鐘到1000轉(zhuǎn)/分鐘(最大1500轉(zhuǎn)/分鐘);6.轉(zhuǎn)盤快速啟停,轉(zhuǎn)盤2秒即可停止轉(zhuǎn)動;7.轉(zhuǎn)速、磨拋時間、轉(zhuǎn)動方向等全部磨拋參數(shù),并自動保存、方便調(diào)用;8.手動模式,四擋;9.64種自動工序;10.12種常用材料磨拋工藝;11.水閥自動開啟,水滴位置可回轉(zhuǎn)
觸摸屏全自動磨拋機ZMP-2SC產(chǎn)品特點:1.中心加載力方式,一次性固定六個樣品,完成研磨拋光過程,磨拋出各個樣品的完整平面2.獨立控制磨拋盤和樣品盤:轉(zhuǎn)速、磨拋時間、轉(zhuǎn)動方向、水閥關(guān)閉等磨拋參數(shù);3.觸摸屏界面:磨拋參數(shù)設定方便,狀態(tài)顯示直觀,操作簡單;4.加載力可以在運行中調(diào)整,靈活方便。5.通過用電磁閥來控制水的通斷。6.輕松更換磁性防粘盤,就能完成試樣的粗磨、精磨及粗拋光、精拋光。7.精度高,運行平穩(wěn),噪音低。8.樣品磨去層厚度控制:精準控制樣品的磨去量,磨到指定位置 (選購);9.外部滴液器控制
該機是陶瓷、化工行業(yè)實驗室細磨的較理想設備,每次研磨量大,研磨罐為陶瓷。磨擦輪及長軸的間距用戶可根據(jù)研磨罐的長度、直徑大小來任意調(diào)節(jié),可根據(jù)用戶要求放置3L、5L等不同大小規(guī)格的研磨罐。GLM滾輪球磨機主要技術(shù)參數(shù):1、瓷瓶個數(shù):4、6、8等規(guī)格任選(可放3L,5L等規(guī)格研磨罐)2、球磨速度:70~100r/min3、功率:0.55KW、0.75KW4、電源:380V GLM滾輪球磨機結(jié)構(gòu)及工作原理:該設備由機架、電機、皮帶輪減速裝置,長軸及電器控制部分等組成。其工作原理是電機帶動皮帶減速裝置、使長軸作勻
KXM-SXX-4雙行星式球磨機特點:球磨罐采用兩個行星式運轉(zhuǎn),直線沖擊,球磨效率大大提高,出料更細、更均勻。最細出料0.06微米即60納米 ,是實驗室細磨、混合的設備。KXM-SXX-4雙行星式球磨機用途:KXM-SXX-4系列雙行星式球磨機是實驗室、細磨、混合、小批量生產(chǎn)高科技材料的必備裝置。該機美觀新穎、結(jié)構(gòu)緊湊、操作方便、工作效率高、細磨粒度均勻。是科研、教學、試驗、生產(chǎn)的優(yōu)選設備。廣泛應用于地質(zhì)、礦產(chǎn)、冶金、電子、建材、陶瓷、化工、輕工、醫(yī)藥、環(huán)保等部門。KXM-SXX-4雙行星式球磨機工作原理