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離子濺射儀MC1000

所屬系列:ZJYQ-ZYQCLJD-HITACHI

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產品描述
采用LCD觸摸屏,可以更加簡便地設定加工條件
可處理較厚或較大的樣品(選配件)
記憶功能可存儲常用加工條件

離子濺射儀MC1000規(guī)格:


項目

說明

放電

類型

磁控二管放電型(電場垂直于磁場)

電組成

反向平行盤(嵌入磁鐵)

電壓

0.4 kV DC(直流可變)

電流

40 mA DC

噴鍍速率 *1()
[條件]
壓力:7 Pa
放電電流:40 mA
標靶與樣品表面之間的距離:20 mm

Pt (選配件)

15 nm/min

Pt-Pd (選配件)

20 nm/min

Au (選配件)

35 nm/min

Au-Pd (選配件)

25 nm/min

樣品尺寸

大直徑

φ60 mm

大高度

20 mm

機械泵

135/162 l/min (50/60Hz)

靶材*2

Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4)

電源要求

單相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-針插頭線纜(3 m)

尺寸

寬度

450 mm

長度

391 mm

高度

390 mm

重量

主機:約 22 kg
機械泵:約 30 kg

*1噴鍍速率僅供參考

*2主機內不包括靶材。請從選項中選擇(鉑,鉑-鈀,金,金-)。



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